廈門韞茂真空鍍膜機廠家
一、真空鍍膜機廠家核心參數(shù)：
儀器種類：磁控濺射鍍膜機
產(chǎn)地類別：國產(chǎn)
應用領域：微電子學
基片尺寸：4寸（可定制）
靶材：鉭
基片溫度范圍：RT-900oC
成膜厚度均勻性：基板刻蝕均一性<3%
極限真空：真空UltimatePressure<3E-9Torr
二、磁控濺射技術原理：
在陰極靶的表面上方形成一個正交電磁場。當濺射產(chǎn)生的二次電子在陰極位降區(qū)內(nèi)被加速為高能電子后，并不直接飛向陽極，而是在正交電磁場作用下作來回振蕩的近似擺線的運動。高能電子不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并向后者轉(zhuǎn)移能量，使之電離而本身變成低能電子。這些低能電子終沿磁力線漂移到陰極附近的輔助陽極而被吸收，避免高能電子對極板的強烈轟擊，消除了二級濺射中極板被轟擊加熱和被電子輻照引起的損傷，體現(xiàn)出磁控濺射中極板“低溫"的特點。由于外加磁場的存在，電子的復雜運動增加了電離率，實現(xiàn)了高速濺射。
真空鍍膜機廠家
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