超純水設(shè)備_寧波超純水設(shè)備_電子行業(yè)超純水

超純水設(shè)備之---電子行業(yè)   電子行業(yè)為什么要用到超純水設(shè)備？

去離子水/超純水在電子工業(yè)主要是線路板、電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出，去離子/超純水水質(zhì)已成為影響線路板、電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一，水質(zhì)要求也越來越高。在電子元器件生產(chǎn)中，去離子水/超純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途及對水質(zhì)的要求也不同17714079756

 在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會使PN結(jié)耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會使N型半導(dǎo)體特性惡化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）會使P型半導(dǎo)體特性惡化，水中細(xì)菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)?/span>N型硅而導(dǎo)致器件性能變壞，水中的顆粒（包括細(xì)菌）如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。集成電路生產(chǎn)對純水水質(zhì)的要求見表1

對純水水質(zhì)的要求

電子超純水設(shè)備是保證電子 產(chǎn) 品 質(zhì)量 安 全 促進電子業(yè)健康運行的依據(jù)，電子超純水設(shè)備適用集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片、半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工，純水一號的電子工業(yè)設(shè)備廣泛的用于在電子業(yè)中，而且在電子業(yè)中的地位更是蒸蒸日上成為業(yè)內(nèi)發(fā)展的主導(dǎo)者。 電子行業(yè)超純水

目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高

電子行業(yè)超純水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，更沒有細(xì)菌、病毒、含氯等有機物，當(dāng)然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素。超純水,是一般工藝很難達到的程度，如水的電阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。目前，超純水設(shè)備的方法通常采用反滲透，去離子或電去離子(EDI)等工藝

電子行業(yè)超純水發(fā)展的歷史進程

一階段：預(yù)處理過濾器——>陽床——>陰床——>混合床

第二階段：預(yù)處理過濾器——>反滲透——>混合床

現(xiàn)階段：    預(yù)處理過濾器——>反滲透——>EDI(無需酸堿)

電子行業(yè)超純水設(shè)備的幾中工藝

目前制備電子工業(yè)超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進行不同組合搭配衍生而來。現(xiàn)將他們的優(yōu)缺點分別列于下面：

一種：采用離子交換樹脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點

其優(yōu)點在于少，占用的地方少，但缺點就是需要經(jīng)常進行離子再生，耗費大量酸堿，而且對環(huán)境有一定的破壞。

第二種：采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進行組合制備電子工業(yè)超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點

其特點為初次比采用離子交換樹脂方式要稍高，但離子再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。是目前比較經(jīng)濟與流行的一種工

第三種：采用反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點

這是目前制取超純水先進，環(huán)保的的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取超純水，對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初次相對以上兩種方式過于昂貴

電子行業(yè)超純水設(shè)備技術(shù)特征及水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

技術(shù)特征

1、可連續(xù)自動生產(chǎn)，不必停機再生

2、出水水質(zhì)優(yōu)于常規(guī)離子交換法

3、不需酸堿再生，不污染環(huán)境

4、運行成本低，占地面積小

蘇州偉志水處理設(shè)備水處理行業(yè)